看到会场内的气氛逐渐向龙国一方倾斜，许志远知道，是时候揭开芯片数控系统和光刻机背后真正的技术秘密了。

他走到讲台中央，调整了一下麦克风，目光扫视着台下的代表们，语气依旧平静，但每一句话都充满了力量。

“各位代表，今天的演示只是结果，但科学的核心在于过程。

在研发芯片数控系统和光刻机的路上，我们遇到了无数困难，但正是这些困难，磨砺了我们的创新能力。

接下来，我将向大家介绍一些我们团队在研发过程中克服的技术难题，以及我们独特的技术创新点。”

大屏幕再次亮起，展示了一系列复杂的技术图表和研发流程图。

许志远指向屏幕上的光刻机剖面图，开始详细讲解：“在光刻机的研发中，最关键的环节是光源系统、光学投影系统和掩膜版制造技术。没有这些，光刻机就是一台昂贵的摆设。”

“为了实现248纳米的深紫外波长，我们团队开发了一种新型激光器。

这种激光器的稳定性是研发的最大难点，因为哪怕光源波动只有千分之一，也会导致刻蚀失败。

经过数百次实验，我们最终通过一种新的气体混合技术，让激光器的稳定性提高了30%。”

“光学投影系统是光刻机的‘眼睛’，它需要将掩膜版上的电路图形以亚微米级精度投影到晶圆上。

这里，我们使用了多组高精度光学透镜，并通过自研的非球面加工技术，将透镜表面误差控制在0.05微米以内。”

“掩膜版的制造同样是一项极具挑战的技术。为了避免电路图形的边缘模糊，我们设计了一种纳米级镀膜工艺，确保掩膜版的线条宽度误差不超过9纳米。”

台下的支持派代表们听到这里，忍不住交头接耳。

一位汉斯代表惊叹道：“这已经是顶尖的技术水准了！我们自己的光刻机还在解决透镜稳定性的问题，他们居然已经做到这种程度？”

瑞士代表则低声说道：“他们的光刻机不仅可行，还有独特的技术创新点，这绝不是简单的模仿。”